光刻涂胶显影设备填补国内空白 芯源微网上路演引关注

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⊙记者韩○编辑

科学技术委员会的受欢迎程度还在继续。12月3日，拟在科技板块上市的新源威公司网上路演在上交所路演中心举行。新源威董事长宗润富和公司高管当场回答了投资者的提问。在三个小时的沟通过程中，鑫源威与投资者充分沟通了公司目前的发展状况、面临的机遇和挑战，让投资者真正了解鑫源威的发展脉络和技术优势。

在沟通过程中，投资者对新源微的技术领导力表现出浓厚的兴趣，尤其是公司光刻工艺中涂胶和开发设备的技术水平。宗润富表示，作为国内光刻工艺上胶研发设备的代表，公司上胶研发设备技术在集成电路制造和led芯片制造的先进封装领域相对成熟，并已批量应用于公司现有产品。作为主流模式，已成功进入TSMC、长江电子科技、华天科技、通福微电子、方静科技、华灿光电、赣兆光电、澳洋顺昌等众多国内知名一线厂商。

至于公司在其他领域的拓展，宗润富表示，在集成电路制造前的晶圆加工领域，公司相关产品已于2018年下半年发往上海华立和长江仓储进行工艺验证。其中，上海华力机械于2019年9月通过流程验证并确认收入，长江仓储机械仍在验证中。

芯源微是中国高端半导体设备的先驱。其主要产品包括光刻工艺中的涂胶和显影设备以及单片湿法设备，可用于6英寸及以下的单晶片加工和英寸的单晶片加工。其中，涂胶和开发设备产品成功打破了国外厂商的垄断，填补了国内空空白。在集成电路制造之后的led芯片制造和先进封装环节，他们成功实现了进口替代，成为国内制造商的主流机型；在集成电路制造的前置晶片加工中，公司成功突破了前置涂胶和开发设备的关键技术，成型产品目前正在进行工艺验证。

作为项目的牵头单位，鑫源微先后承担并完成了两个“2002年重大专项项目”，即“凸点封装与涂胶开发、单片湿法刻蚀设备的开发与产业化”和“300mm晶圆整平与涂胶开发设备的R&D”。截至2019年3月31日，新源威已获得145项专利授权，其中发明专利127项；拥有37个软件版权。此外，鑫还主持制定了两个行业标准，即喷胶机和涂胶机。

鑫源微计划公开发行不超过2100万股股票，募集3.78亿元用于高端晶圆加工设备产业化和R&D中心项目。根据财务数据，2016年至2018年，新源威分别实现营业收入1.48亿元、1.9亿元和2.1亿元，归属于母公司所有者的净利润分别为493万元、2627万元和3048万元。